
Галерея наноарта
Процесс плазмохимического травления сегодня широко применяют в микро- и нанотехнологиях. При травлении кремния – основного материала микроэлектроники – для достижения высокой скорости процесса и вертикальности стенок канавок разработаны двухстадийные технологии, при которых быстрое травление во фторсодержащей плазме чередуется с пассивацией (покрытием) боковых стенок канавок полимерной пленкой, осаждаемой из фторуглеродной плазмы
Центр коллективного пользования научным оборудованием «Диагностика микро- и наноструктур» – интегрированное научное подразделение Ярославского государственного университета им. П. Г. Демидова и Ярославского филиала Физико-технологического института РАН, располагающее широким спектром высокоточного аналитического и диагностического оборудования. Особое место занимают микроскопы – туннельные, растровые, просвечивающие, среди которых нужно отметить многофункциональный растровый электронный микроскоп «Supra 40» (c разрешением 1 нм и системой микроанализа), на котором можно исследовать множество разнообразных нанообъектов, от биологических структур до новых материалов химической промышленности.
Помимо проведения научно-исследовательских и опытно-конструкторских работ в области микро- и наноэлектроники, а также диагностики микро- и наноструктур электроники, наноматериалов и биоорганических объектов, центр оказывает ряд образовательных услуг, в том числе материально-техническую поддержку основной образовательной программы ЯрГУ «Электроника и наноэлектроника».
В университете считают, что развитие творческих способностей студентов – залог их будущей успешной научной деятельности, поэтому в центре горячо поддерживают студенческое творчество в сравнительно новой области изобразительного искусства, именуемой «наноартом». Речь идет об изображениях объектов, полученных с помощью электронных и атомно-силовых микроскопов и немного «приукрашенных» с помощью компьютерных технологий.
Так, за последний год в центре на аналитическом электронном микроскопе «Supra 40» было исследовано более 2 тыс. образцов различных материалов и структур. Электронные изображения некоторых из них вошли в «Nanoart Gallery» университета. Многие из этих образцов были получены в результате анизотропного плазмохимического травления.
Процесс плазмохимического травления сегодня широко применяют в микро- и нанотехнологиях. При травлении кремния – основного материала микроэлектроники – для достижения высокой скорости процесса и вертикальности стенок канавок разработаны двухстадийные технологии, при которых быстрое травление во фторсодержащей плазме чередуется с пассивацией (покрытием) боковых стенок канавок полимерной пленкой, осаждаемой из фторуглеродной плазмы.
Развитие методов диагностики параметров плазмы и использование современных методов анализа получаемой поверхности (ренгеноэлектронной спектроскопии, электронной микроскопии и спектроскопии вторичных ионов) позволили существенно продвинуться в понимании механизмов травления материалов. Так, скорость травления в плазме для разных материалов определяется потоком заряженных частиц, бомбардирующих их поверхность. Травление диоксида кремния ведут содержащимися в плазме атомами фтора и фторсодержащими радикалами. Моноксид кремния и кристаллический кварц следует, преимущественно, травить путем ионной бомбардировки, при больших потоках и энергиях падающих ионов.
М. н. с. О. Ю. Златоустова, к. ф-м. н. В. В. Наумов, к. ф-м. н. А. Б. Чурилов, д. ф-м. н. А. С. Рудый (ЦКП научным оборудованием «Диагностика микро- и наноструктур», Ярославский государственный университет им. П. Г. Демидова, Ярославский филиал ФТИАН РАН)
